Electrical and structural characteristics of thin nitrided gate oxides prepared by rapid thermal nitridation

Nulman, J. ; Krusius, J.P. ; et al.

In: 1984 International Electron Devices Meeting, 1984, S. 169-172

Konferenz

Titel:	Electrical and structural characteristics of thin nitrided gate oxides prepared by rapid thermal nitridation
Autor/in / Beteiligte Person:	Nulman, J. ; Krusius, J.P. ; Rathbun, L.
Zeitschrift:	1984 International Electron Devices Meeting, 1984, S. 169-172
Quelle:	International Electron Devices Meeting; (1984) S. 169-172
Veröffentlichung:	1984
Medientyp:	Konferenz
DOI:	10.1109/IEDM.1984.190670
Sonstiges:	Nachgewiesen in: IEEE Xplore Digital Library

Klicken Sie ein Format an und speichern Sie dann die Daten oder geben Sie eine Empfänger-Adresse ein und lassen Sie sich per Email zusenden.

BibTeX Citavi, JabRef, u.a.
(Literaturverwaltung)

PDF kein Volltext!
(Merkzettel, Notizen)

RIS Endnote, Citavi u.a.
(Literaturverwaltung)

MODS
(XML zur Weiterverarbeitung)

oder

Wählen Sie das für Sie passende Zitationsformat und kopieren Sie es dann in die Zwischenablage, lassen es sich per Mail zusenden oder speichern es als PDF-Datei.

Gewünschter Zitations-Stil:

oder

Bitte prüfen Sie, ob die Zitation formal korrekt ist, bevor Sie sie in einer Arbeit verwenden. Benutzen Sie gegebenenfalls den "Exportieren"-Dialog, wenn Sie ein Literaturverwaltungsprogramm verwenden und die Zitat-Angaben selbst formatieren wollen.