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    Partial-Discharge-Induced Decomposition and By-Products Properties of Eco-Friendly Insulating Gas HFO-1234ze(E)
    Tian, S. ; Li, X. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Dielectrics and Electrical Insulation, Jg. 31 (2024-06-01), Heft 3, S. 1447-1454
    Online academicJournal
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    Optimization of Ferroelectric Properties of HfO2-Based Thin Films by Ion Irradiation
    Liao, N. ; Lin, X. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Nuclear Science, Jg. 71 (2024-05-01), Heft 5, S. 1208-1217
    Online academicJournal
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    Characterization and Reliability Study of an Al-Doped HfO₂-Based High-Density 2.5-D MIMCAP
    Chery, E. ; Croes, K. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Electron Devices, Jg. 71 (2024-06-01), Heft 6, S. 3845-3851
    Online academicJournal
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    High-Speed and Low-Power Ferroelectric HfO₂/ZrO₂ Superlattice FinFET Memory Device Using AlON Interfacial Layer
    Wei, C. ; Huang, M. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Electron Devices, Jg. 71 (2024-06-01), Heft 6, S. 3977-3980
    Online academicJournal
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    A PV-HFO Hybrid Model for the Existing IPPs of Bangladesh to Reduce Energy Cost and Fossil Fuel Consumption
    Khan, M. Rezwan
    In: 2024 7th International Conference on Development in Renewable Energy Technology (ICDRET), 2024-03-07, S. 1-4
    Online Konferenz
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    High-Performance HfO2/Al2O3 Superlattice MIM Capacitor in a 200 mm High-Volume Batch-ALD Platform
    Mukhopadhyay, P. ; Fletcher, I. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Electron Devices, Jg. 71 (2024-03-01), Heft 3, S. 2036-2042
    Online academicJournal
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    Green Synthesis and Sensing Assessment of HfO2 Nanoparticles for Detecting Liquid NH3 Using Electrochemical Impedance Spectroscopy
    Dehury, T. ; Rath, C. ; et al.
    In: IEEE Sensors Letters, Jg. 8 (2024-03-01), Heft 3, S. 1-4
    Online academicJournal
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    Volltext
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    Partial Discharge Induced Decomposition Properties and Mechanism of HFO-Butene/CO2 as Eco-Friendly Gas Insulating Medium
    Li, Y. ; Qin, J. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Dielectrics and Electrical Insulation, Jg. 31 (2024-02-01), Heft 1, S. 193-203
    Online academicJournal
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    Volltext
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    Spike-Time Dependent Plasticity in HfO₂-Based Ferroelectric FET Synapses
    Masud Rana, Sk ; Roy, Sourodeep ; et al.
    In: 2024 8th IEEE Electron Devices Technology & Manufacturing Conference (EDTM), 2024-03-03, S. 1-3
    Online Konferenz
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    Impact of oxygen flow rate and annealing on the structural and optical properties of HfO2 thin films
    Gupta, Abhinav Kumar ; Pathak, Anushmita ; et al.
    In: 2023 IEEE Silchar Subsection Conference (SILCON), 2023-11-03, S. 1-4
    Online Konferenz
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    Volltext
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    Growth of the orthorhombic phase and inhibition of charge injection in ferroelectric HfO<subscript>2</subscript>-based MFIS memory devices with a high-permittivity dielectric seed layer
    Zhang, Yan ; Wang, Dao ; et al.
    In: Science China Materials, Jg. 66 (2023), Heft 1, S. 219-232
    academicJournal
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    Ferroelectric HfO2-based Capacitors for FeRAM: Reliability from Field Cycling Endurance to Retention (invited)
    Vishnumurthy, Pramoda ; Alcala, Ruben ; et al.
    In: 2024 IEEE International Reliability Physics Symposium (IRPS), 2024-04-14, S. 1-10
    Online Konferenz
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    The Reliability Impact of Bi Doping on the HfO<subscript>2</subscript> Charge-Trapping Layer: A First-Principles Study
    Ye, Fengyu ; Zhu, Ying ; et al.
    In: Journal of Electronic Materials, 2024-04-18, S. 1-12
    academicJournal
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    Effect of SiO2 Interfacial Layer Reduction on MFSFET With 5 nm-Thick Ferroelectric Nondoped HfO2 by Deposition Rate Control
    Ohmi, S. ; Tanuma, M. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 36 (2023-11-01), Heft 4, S. 553-557
    Online academicJournal
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Evolution of Ferroelectricity With Annealing Temperature and Thickness in Sputter Deposited Undoped HfO2 on Silicon
    Ali, H. ; Pandey, A. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Electron Devices, Jg. 70 (2023-11-01), Heft 11, S. 6034-6041
    Online academicJournal
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Surface Flashover Characteristics of Epoxy Resin in HFO-1336mzz(E)/CO2 Gas Mixtures Under Negative DC Voltage
    Wang, F. ; Hu, D. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Dielectrics and Electrical Insulation, Jg. 30 (2023-10-01), Heft 5, S. 2067-2074
    Online academicJournal
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Impact of Bottom Electrode Crystallinity on Ferroelectricity of La-Doped HfO2
    Li, J. ; Su, M. ; et al.
    In: IEEE Electron Device Letters, Jg. 44 (2023-11-01), Heft 11, S. 1833-1836
    Online academicJournal
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    Polarization Switching and Charge Trapping in HfO2-Based Ferroelectric Transistors
    Zhou, H. ; Ocker, J. ; et al.
    In: IEEE Electron Device Letters, Jg. 44 (2023-11-01), Heft 11, S. 1903-1906
    Online academicJournal
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Enhanced Thermal Stability and Suppressed Resistance Drift of Sb<subscript>70</subscript>Se<subscript>30</subscript> Phase-Change Thin Films by Adding HfO<subscript>2</subscript> Interlayers
    Wang, Kangyao ; Chen, Leng
    In: Journal of Electronic Materials, Jg. 53 (2024-04-01), Heft 4, S. 2084-2093
    academicJournal
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    Switching Dynamics of HfO2–ZrO2 Nanolaminates With Different Laminate Thicknesses
    Ke, X. ; Chai, J. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Electron Devices, Jg. 71 (2024-06-01), Heft 6, S. 3651-3658
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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