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    Ion energy control and its applicability to plasma enhanced atomic layer deposition for synthesizing titanium dioxide films.
    Iwashita, Shinya ; Denpoh, Kazuki ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 660 (2018-08-30), S. 865-870
    academicJournal
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    Dieser Titel kann aus lizenzrechtlichen Gründen nur im Campusnetz oder nach Anmeldung angezeigt werden!
    academicJournal
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    Effect of energetic ion beam irradiation on structural and optical properties of a-Si:H thin films
    Goh, Boon Tong ; Ngoi, Siew Kien ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 529 (2013-02-01), S. 159-163
    academicJournal
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    Spectroellipsometric and ion beam analytical investigation of nanocrystalline diamond layers
    Lohner, T. ; Csíkvári, P. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 519 (2011-02-28), Heft 9, S. 2806-2810
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Deposition of diamond-like carbon films on polymers by plasma source ion implantation
    Baba, K. ; Hatada, R.
    In: Thin Solid Films, Jg. 506-507 (2006-05-26), S. 55-58
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Effect of impinging ion energy on the substrates during deposition of SiO<subscript>x</subscript> films by radiofrequency plasma enhanced chemical vapor deposition process
    Choudhury, A.J. ; Barve, S.A. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 519 (2011-09-01), Heft 22, S. 7864-7870
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Impact of radio frequency source power-induced ion energy on a refractive index of SiN film deposited by a pulsed-PECVD at room temperature
    Kim, Suyeon ; Kim, Byungwhan
    In: Thin Solid Films, Jg. 518 (2010-09-01), Heft 22, S. 6554-6557
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Characterization of silicon oxide gas barrier films with controlling to the ion current density (ion flux) by plasma enhanced chemical vapor deposition
    Jin, Su B. ; Kim, Youn J. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 518 (2010-09-01), Heft 22, S. 6385-6389
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Stability of indium-oxide thin-film transistors by reactive ion beam assisted deposition
    Vygranenko, Y. ; Wang, K. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 517 (2009-10-01), Heft 23, S. 6341-6344
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Compositional analysis of polycrystalline hafnium oxide thin films by heavy-ion elastic recoil detection analysis
    Martínez, F.L. ; Toledano, M. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 515 (2006-10-25), Heft 2, S. 695-699
    academicJournal
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    Residual stress on nanocrystalline silicon thin films deposited under energetic ion bombardment by using internal ICP-CVD
    Lee, H.C. ; Hong, S.P. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 517 (2009-05-29), Heft 14, S. 4100-4103
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Anneal temperature dependent Er<superscript>3+</superscript>/Tm<superscript>3+</superscript> energy transfer and luminescence from Er and Tm co-doped silicon-rich silicon oxide
    Seo, Se-Young ; Kim, Kyung Joong ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 518 (2010-09-30), Heft 23, S. 7012-7015
    academicJournal
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    Nanocrystalline thin film silicon solar cells: A deeper look into p/i interface formation.
    Lyubchyk, Andriy ; Filonovich, Sergej Alexandrovich ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 591 (2015-09-29), S. 25-31
    academicJournal
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    In-situ investigation on the deformation and damage behaviour of diamond-like carbon coated thin films under uniaxial loading
    Schaufler, Jens ; Durst, Karsten ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 517 (2009), Heft 5, S. 1681-1685
    academicJournal
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    Effect of grain boundary on electrical characteristics in B- and P-doped polycrystalline Si<subscript>1−x </subscript> <subscript>−y </subscript>Ge<subscript> x </subscript>C<subscript> y </subscript> film deposited by ultraclean LPCVD
    Shim, Hyunyoung ; Sakuraba, Masao ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 508 (2006-06-05), Heft 1/2, S. 36-39
    academicJournal
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    Effects of strong magnetic field on carbon nanotube formation using rf glow-discharge plasma
    Kaneko, T. ; Matsuoka, H. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 506-507 (2006-05-26), S. 259-262
    academicJournal
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    academicJournal
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    Epitaxy — A way to novel field effect devices
    Sulima, Torsten ; Abelein, Ulrich ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 517 (2008-11-03), Heft 1, S. 365-368
    academicJournal
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    Antimicrobial finishing of textiles intended for food processing industry by plasma enhanced chemical vapor deposition – physical vapor deposition of Ag-SiOCH composites coated with AlxOy or SiOCH encapsulation layers.
    Brunon, Céline ; Chadeau, Elise ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 628 (2017-04-30), S. 132-141
    academicJournal
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    Effects of rf power on the structural properties of carbon nitride thin films prepared by plasma enhanced chemical vapour deposition
    Othman, Maisara ; Ritikos, Richard ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 519 (2011-05-31), Heft 15, S. 4981-4986
    academicJournal
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