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    Energy contamination control during ion beam deceleration for low energy ion implantation
    Wan, Zhimin ; Chen, Jiong ; et al.
    In: Ion Implantation Technology. 2002. Proceedings of the 14th International Conference on, 2002, S. 221-224
    Online Konferenz
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    Wie komme ich dran?
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    Low energy implant throughput improvement by using the Arsenic dimer ion (As2+) on the Axcelis GSDIII/LED ion implanter
    Kopalidis, P. ; Sohl, C. ; et al.
    In: Ion Implantation Technology. 2002. Proceedings of the 14th International Conference on, 2002, S. 122-125
    Online Konferenz
    Zugriff:
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    Wie komme ich dran?
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    Development of DC-PFG for a large size ion beam in ion doping system
    Maeno, S. ; Ando, Y. ; et al.
    In: Ion Implantation Technology. 2002. Proceedings of the 14th International Conference on, 2002, S. 311-314
    Online Konferenz
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    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Dose monitoring of heavy ion implantation by Therma-Wave signal
    Sano, M. ; Harada, M. ; et al.
    In: Ion Implantation Technology. 2002. Proceedings of the 14th International Conference on, 2002, S. 248-251
    Online Konferenz
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    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Influence of antenna shape and resist patterns on charging damage during ion implantation
    Dirnecker, T. ; Frey, L. ; et al.
    In: Ion Implantation Technology. 2002. Proceedings of the 14th International Conference on, 2002, S. 291-294
    Online Konferenz
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    Wie komme ich dran?
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    Introducing the ORion II NV7392 flat panel ion doping system
    Sato, M. ; Maruyama, M. ; et al.
    In: Ion Implantation Technology. 2002. Proceedings of the 14th International Conference on, 2002, S. 383-386
    Online Konferenz
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    Wie komme ich dran?
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    Low energy ion beam transport
    Graf, M.A. ; Vanderberg, B. ; et al.
    In: Ion Implantation Technology. 2002. Proceedings of the 14th International Conference on, 2002, S. 359-364
    Online Konferenz
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    Wie komme ich dran?
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    Elemental analysis of residual deposits in an ion implanter using IBA techniques
    Mefo, J. ; Kirkby, K.J. ; et al.
    In: Ion Implantation Technology. 2002. Proceedings of the 14th International Conference on, 2002, S. 467-470
    Online Konferenz
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    Wie komme ich dran?
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    Characterization and environmental impact of plasma products within an ion implanter
    Zarrug, H. ; Mefo, J. ; et al.
    In: Ion Implantation Technology. 2002. Proceedings of the 14th International Conference on, 2002, S. 471-474
    Online Konferenz
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  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Performance characteristics of the Varian Semiconductor VIISta 3000 single wafer high energy ion implanter
    Thornton, A. ; Chang, Shengwu ; et al.
    In: Ion Implantation Technology. 2002. Proceedings of the 14th International Conference on, 2002, S. 501-504
    Online Konferenz
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    Study of damage formation by low-energy boron cluster ion implantation
    Aoki, T. ; Matsuo, J. ; et al.
    In: Ion Implantation Technology. 2002. Proceedings of the 14th International Conference on, 2002, S. 560-563
    Online Konferenz
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Design issues in gas cluster ion beamlines
    Mack, M.E. ; Becker, R. ; et al.
    In: Ion Implantation Technology. 2002. Proceedings of the 14th International Conference on, 2002, S. 665-668
    Online Konferenz
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    Nanometer-scale silicide structures formed by focused ion-beam implantation
    Alford, T.L. ; Mitan, M. ; et al.
    In: Ion Implantation Technology. 2002. Proceedings of the 14th International Conference on, 2002, S. 677-681
    Online Konferenz
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Development of the large current cluster ion beam technology
    Seki, T. ; Matsuo, J. ; et al.
    In: Ion Implantation Technology. 2002. Proceedings of the 14th International Conference on, 2002, S. 673-676
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Channeling effects and quad chain implantation process optimization for low energy boron ions
    Kondratenko, S. ; Reece, R.N. ; et al.
    In: Ion Implantation Technology. 2002. Proceedings of the 14th International Conference on, 2002, S. 72-75
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Comparison of plasma doping and beamline technologies for low energy ion implantation
    Renau, A. ; Scheuer, J.T.
    In: Ion Implantation Technology. 2002. Proceedings of the 14th International Conference on, 2002, S. 151-156
    Online Konferenz
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Different ion implanted edge terminations for Schottky diodes on SiC
    Weiss, R. ; Frey, L. ; et al.
    In: Ion Implantation Technology. 2002. Proceedings of the 14th International Conference on, 2002, S. 139-142
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    High accuracy and rapid dose measurements for ultra-low energy ion implantation using low energy x-ray emission spectroscopy
    Corcoran, S.F. ; Hombourger, C. ; et al.
    In: Ion Implantation Technology. 2002. Proceedings of the 14th International Conference on, 2002, S. 165-168
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    Charge exchange and neutral transport contributions to energy contamination in decel mode, sub-keV ion implantation
    Armour, D.G. ; van den Berg, J.A. ; et al.
    In: Ion Implantation Technology. 2002. Proceedings of the 14th International Conference on, 2002, S. 181-184
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    Characterization of boron and phosphorus surface contamination in high current ion implantation
    Bernstein, J.D. ; Alvarez, A.W. ; et al.
    In: Ion Implantation Technology. 2002. Proceedings of the 14th International Conference on, 2002, S. 177-180
    Online Konferenz
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    Wie komme ich dran?
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